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游离二氧化硅前处理仪

游离二氧化硅前处理仪

简要描述:游离二氧化硅前处理仪自动完成添加焦磷酸、自动加热搅拌、自动升温、15分钟消解过程准确控温在245℃-250℃、自动降温、自动注水、自动复温、自动过滤、自动清洗等功能,整个过程无需人员值守,实现了游离二氧化硅分离前处理的自动化。

产品型号: HD-Si12

所属分类:游离二氧化硅前处理仪

更新时间:2024-11-26

厂商性质:生产厂家

详情介绍

一、仪器功能要求

游离二氧化硅前处理仪依据国家职业卫生标准《GBZ/T 192.4-2007工作场所空气中粉尘测定 第4部分:游离二氧化硅含量》中规定的前处理步骤,自动完成添加焦磷酸、自动加热搅拌、自动升温、15分钟消解过程准确控温在245℃-250℃、自动降温、自动注水、自动复温、自动过滤、自动清洗等功能,整个过程无需人员值守,实现了游离二氧化硅分离前处理的自动化。

二、游离二氧化硅前处理仪的主要技术参数

*2.1全自动一体机,自动完成加焦磷酸、消解、降温、过滤、清洗等实验步骤,满足国标要求,保证数据准确性。

*2.2仪器具有加水后复温功能,过滤过程中,可对液体实时混匀,混匀速度可调。

*2.3配备≥12个样本位,≥12个过滤位。特制玻璃样品杯,保障样品快速均匀加热,特制过滤装置,耐酸碱耐高温,实现快速过滤。样本可连续上机,实现不停机做样。

2.4运行过程中无需转移样品,减少样品在不同器皿之间转移过程中的损失。

2.5仪器可以自动添加焦磷酸至样品中,无需手工添加。

2.6仪器具有自动降温功能,消解后样品架离开加热位,完成快速降温。

2.7自动控温加热,10min内液体升温至245℃,15分钟保持在245℃-250℃。

*2.8采用双感温控探头,实时监控液体温度,控温精度±0.1℃。

2.9仪器采用一体恒温加热模组,各加热位温度均匀一致。

2.10仪器采用耐酸碱高精度计量泵,加液精度<1%。

2.11特制搅拌棒,搅拌测温一体设计,搅拌速度可调节,保证样品搅拌均匀。

2.12具有磷酸制备焦磷酸功能,可自动加磷酸,在线制备焦磷酸。

*2.13采用负压过滤系统,两个样品可同时过滤,滴液速度和负压大小均可调节,快速安全。

2.14仪器内置调试软件,自动校准加液精度。

2.15仪器自动使用0.1mol/L盐酸和高温纯化水冲洗样品杯和残渣,用户还可根据需要选择清洗次数和清洗量,足量清洗,提高结果准确性。

*2.16采用喷头喷淋清洗样品杯,保证清洗无残留。

2.17仪器具有排风装置,可自动对接排风管道,也可置于通风橱内使用。

2.18仪器具有试剂液量消耗监控,低于预警值能够实现人性化提醒,确保实验有效进行。

2.19仪器内置触摸屏电脑,软件自动控制,直接编辑输入信息,无需人工干预。

2.20实验过程全流程可视,软件可直观显示当前实验状态和进度。

2.21实验过程中温度实时显示,并自动记录消解搅拌时间。

2.22安全性保护:仪器具有消解加热过温保护,整机设备(空气开关)漏电过流保护。

2.23仪器自动记录实验各环节过程参数,形成实验过程记录,并可支持数据打印,导出,数据储存量≥10000 组。

2.24 仪器支持U盘升级,也可选配远程升级功能,简化设备固件升级流程,一键升级。

游离二氧化硅前处理仪




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